Descrição
Sistema de deposição química em fase vapor (CVD) com filamento quente para síntese de filmes finos e revestimentos funcionais. Permite deposição controlada de diversos materiais em diversos substratos.
Aplicações: Fabrico de semicondutores e microelectrónica, Produção de revestimentos protectores (anti-desgaste, anticorrosão), Deposição de filmes finos para dispositivos ópticos, Síntese de nanomateriais (grafeno, nanotubos de carbono)
